本發(fā)明涉及輻射探測技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種帶有多層反射膜的閃爍體陣列及其制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明提供的帶有多層反射膜的閃爍體陣列的制備方法,包括以下步驟:在原位制備的閃爍體陣列表面沉積高反膜,得到帶有多層反射膜的閃爍體陣列;所述沉積的方法包括原子層沉積法、物理氣相沉積法和化學(xué)氣相沉積法中的一種或幾種。本發(fā)明通過采用原子層沉積法、物理氣相沉積法或化學(xué)氣相沉積法在閃爍體陣列的表面沉積高反膜,能夠同時對閃爍體陣列中的所有閃爍體條進行鍍膜,無需對每個閃爍體條單獨鍍膜,能夠節(jié)省制造成本,提高生產(chǎn)效率,且能夠適應(yīng)小尺寸的閃爍體陣列。
聲明:
“帶有多層反射膜的閃爍體陣列及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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