抗蠕變拋光墊窗。本發(fā)明的拋光墊可以用來對磁性基片、光學(xué)基片和半導(dǎo)體基片中的至少一種進(jìn)行拋光。所述拋光墊包括拋光層,所述拋光層包括聚氨酯窗。所述聚氨酯窗包括由預(yù)聚物混合物中的脂族或脂環(huán)族異氰酸酯和多元醇形成的交聯(lián)結(jié)構(gòu)。所述預(yù)聚物混合物與包含OH或NH2基團(tuán)的增鏈劑反應(yīng),其中OH或NH2與未反應(yīng)的NCO的化學(xué)計量比小于95%。當(dāng)在60℃的恒定溫度下,在140分鐘,以1千帕的恒定軸向張力負(fù)荷測量的時候,所述聚氨酯窗的隨時間變化的應(yīng)變小于或等于0.02%,肖氏D硬度為45-90,對于厚度為1.3毫米的樣品,在400納米波長下的雙程透光率至少為15%。
聲明:
“抗蠕變拋光墊窗” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)