本發(fā)明公開了一種窄帶隙聚吡咯甲烯光電功能聚合物材料的制備方法,屬于共軛聚合物材料的合成技術(shù)。該制備方法包括以下過程:將3-丁?;量┡c對(duì)十四烷氧基苯甲醛在酸性條件下反應(yīng)制備聚[(3-丁酰基吡咯)-2,5-二(對(duì)十四烷氧基苯甲烷)](PBPDTBA);將PBPDTBA利用四氯苯醌進(jìn)一步醌化得到聚[(3-丁?;量?-2,5-二(對(duì)十四烷氧基苯甲烯)](PBPDTBE)。本發(fā)明制得的聚吡咯甲烯可以溶于氯仿、苯等低沸點(diǎn)溶劑中,溶解性和成膜性優(yōu)良,光學(xué)帶隙和
電化學(xué)帶隙分別為1.84eV和1.60eV,采用Z-掃描法測(cè)量其三階非線性光學(xué)極化率達(dá)到1.22×10-8esu。
聲明:
“窄帶隙聚吡咯甲烯光電功能聚合物材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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