本公開(kāi)的方法包括:工序(I),對(duì)聚合物膜(1)照射由在回旋加速器中加速后的離子(2)構(gòu)成的離子束,從而形成經(jīng)該離子束中的離子碰撞后的聚合物膜;和工序(II),對(duì)在工序(I)中形成的聚合物膜進(jìn)行化學(xué)蝕刻,從而在聚合物膜中形成與離子碰撞的軌跡(3)對(duì)應(yīng)的開(kāi)口(4b)和/或通孔(4a)。在工序(I)中,在離子束的路徑上的聚合物膜的上游和/或下游檢測(cè)離子束的束電流值,并且基于檢測(cè)出的束電流值控制離子束對(duì)聚合物膜的照射條件,使得離子對(duì)聚合物膜的照射密度為設(shè)定值。本公開(kāi)的方法適合于多孔聚合物膜的工業(yè)生產(chǎn)。
聲明:
“多孔聚合物膜的制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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