本發(fā)明公開了一種高比表面積的圖案化摻硼金剛石電極及其制備方法和應(yīng)用,使用光刻方法在不銹鋼薄片上刻出規(guī)則的圖案;將具有通孔圖案的不銹鋼薄片覆蓋在襯底表面,然后共同置于化學(xué)氣相沉積爐中,采用基臺限位固定;于襯底表面的暴露部份沉積生長圖案化摻硼金剛石層即得圖案化摻硼金剛石電極,化學(xué)氣相沉積過程中,控制襯底的表面溫度為750?950℃,生長氣壓為2.5?5KPa,通入的甲烷、硼烷、氫氣的比例為(1?20):(0.3?1):(45?49);最后將制備的摻硼金剛石電極作為工作電極,鉑片作為對電極,Ag/AgCl電極作為參比電極組裝成檢測電極系統(tǒng);該發(fā)明的制備方法相比現(xiàn)有技術(shù)更簡單,操作更容易控制,制作成本也更低。
聲明:
“高比表面積的圖案化摻硼金剛石電極及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)