本發(fā)明公開了一種高靈敏光學(xué)氨敏材料的制備方法,包括以下步驟:1)將P型硅片固定在電解池內(nèi),以氫氟酸、乙醇、丙三醇混合而成的溶液作為電解液,進(jìn)行
電化學(xué)直流刻蝕,在20m~100mA/cm2刻蝕200~1200s,之后洗滌、干燥;2)在400~550℃氧化1~5小時(shí);3)將酸堿敏感染料與乙醇混合,并添加乙酸水溶液,將酸堿敏感染料溶液負(fù)載于納米多孔材料載體上,最后經(jīng)干燥后得到高靈敏光學(xué)氨敏材料。本發(fā)明的氨敏材料以高比表面積的多孔材料作為載體,指示劑負(fù)載量大,靈敏度高,其最低可檢測(cè)0.1ppm的氨氣;響應(yīng)速度快,響應(yīng)時(shí)間在10s以內(nèi),可應(yīng)用于在線檢測(cè);制備工藝簡(jiǎn)單,可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。
聲明:
“高靈敏光學(xué)氨敏材料的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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