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CMP仿真模型的建立方法及系統(tǒng)

859   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:32:27
本發(fā)明提供一種CMP仿真模型的建立方法,包括:根據(jù)研磨液中化學(xué)組分的化學(xué)反應(yīng)以及研磨顆粒的機(jī)械去除機(jī)理,建立化學(xué)動(dòng)力去除模型,所述化學(xué)動(dòng)力去除模型的去除速率至少與化學(xué)組分的濃度以及機(jī)械研磨速率相關(guān);根據(jù)晶圓表面和研磨顆粒的受力分析以及研磨墊的形變分析,建立晶圓與研磨顆粒及研磨墊的接觸力學(xué)模型;建立研磨液化學(xué)組分在晶圓表面不同區(qū)域的濃度分布模型;根據(jù)所述接觸力學(xué)模型和所述濃度分布模型,通過所述化學(xué)動(dòng)力去除模型建立多物理去除模型。該模型可以深刻闡釋晶圓表面材質(zhì)的多物理去除機(jī)制,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)晶圓表面形貌以及工藝偏差的動(dòng)態(tài)模擬,為CMP工藝中參數(shù)設(shè)置以及設(shè)計(jì)優(yōu)化提供指導(dǎo)。
聲明:
“CMP仿真模型的建立方法及系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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