本發(fā)明公開了一種無取向硅鋼光譜標(biāo)樣的制作方法,包括:按照設(shè)計(jì)的化學(xué)成分冶煉鑄坯;對鑄坯進(jìn)行熱切割,得到方坯;對方坯進(jìn)行逐級階梯式降溫;采用四分法對降溫后的方坯進(jìn)行切割,制取檢驗(yàn)樣品和成品方坯;對檢驗(yàn)樣品進(jìn)行元素偏析檢驗(yàn)和物理低倍組織檢驗(yàn),根據(jù)檢驗(yàn)結(jié)果由成品方坯制取光譜標(biāo)樣;光譜標(biāo)樣經(jīng)過組織檢驗(yàn)和均勻性檢驗(yàn)之后進(jìn)行包括氧元素含量的化學(xué)元素定值。本發(fā)明還公開了一種無取向硅鋼光譜標(biāo)樣。本發(fā)明保證了高硅、高鋁、低氣體元素碳、硫、氮、氧的高牌號無取向硅鋼光譜樣品的內(nèi)部組織無裂紋無缺陷。在滿足均勻一致性的前提下,擴(kuò)大研制批量,滿足了自動(dòng)化智能化分析系統(tǒng)下對爐前光譜控樣均勻性好、數(shù)量多的需求。
聲明:
“無取向硅鋼光譜標(biāo)樣及其制作方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)