本發(fā)明提供一種基于重組皮膚模型的光致敏性評價方法,所述方法包括以下步驟:S1.復(fù)蘇重組皮膚模型;S2.涂抹受試物;S3.清洗受試物;S4.選取光源;S5.評價光致敏性;其中,所述評價光致敏性包括:利用雙末端測序法分析全基因組,通過與未照射組比較致敏相關(guān)基因上調(diào)個數(shù)來評價受試物的光致敏性。本發(fā)明基于重組皮膚模型的光致敏性評價方法,不僅能夠檢測容易分散的化學(xué)品,還能檢測不分散的化學(xué)品及化妝品成品。
聲明:
“基于重組皮膚模型的光致敏性評價方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)