一種金屬粒子陣列基表面增強拉曼散射基底的制備方法,它是以金屬輔助化學腐蝕法制備出的多孔硅納米線陣列(PSNWA)為襯底材料,利用浸漬還原法將金屬鹽溶液中的金屬離子還原成單質(zhì),并以納米顆粒的形式在PSNWA表面均勻沉積后得到表面增強拉曼散射活性基底,通過浸潤或滴定的方法將待檢測物質(zhì)引入活性基底表面,即可進行拉曼光譜檢測。該方法成本低廉、工藝簡單、操作簡便,SERS信號靈敏度高、重復性好,同時SERS光譜有很高的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。本發(fā)明提供快速、高靈敏度、高可靠性的分子檢測及痕量分析方法,需用樣品量極少,適合各種液體樣品,在臨床生物分子快速識別、痕量化學物質(zhì)檢測、生物樣品分析等方面具有廣闊應用前景。
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“金屬粒子陣列基表面增強拉曼散射基底的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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