本發(fā)明公開了一種納米微區(qū)阻抗原位測量技術,包括上位計算機PC、數(shù)據(jù)I/O通道、交流阻抗儀、原子力顯微鏡和機械耦合模塊,所述上位計算機PC與數(shù)據(jù)I/O通道連接,且數(shù)據(jù)I/O通道分別與交流阻抗儀和原子力顯微鏡連接,所述交流阻抗儀和原子力顯微鏡通過機械耦合模塊進行機械耦合,且交流阻抗儀包括微歐計、鎖相放大器和阻抗電路,所述微歐計和鎖相放大器均與數(shù)據(jù)I/O通道連接,且微歐計和鎖相放大器均與阻抗電路連接,所述微歐計與鎖相放大器連接。本發(fā)明可在觀察樣品表面形貌和結構變化的同時,在微納米尺度上進行精確定位的
電化學檢測,實現(xiàn)材料結構、電子和離子輸運特性的實時原位測量。
聲明:
“納米微區(qū)阻抗原位測量技術” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)