公開一種用于化學(xué)機械拋光的裝置,該裝置包括:臺板,具有表面以支撐拋光墊;載體頭,以將基板固定為抵靠該拋光墊的拋光面;墊調(diào)節(jié)器,用來將調(diào)節(jié)盤固定為抵靠該拋光面;原位拋光墊厚度監(jiān)測系統(tǒng);和控制器,被配置為從該監(jiān)測系統(tǒng)接收信號并通過將預(yù)測濾波器應(yīng)用至該信號來產(chǎn)生拋光墊磨損率的測量。
聲明:
“用于拋光墊磨損率監(jiān)測的預(yù)測濾波器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)