本發(fā)明提供一種化學(xué)機械(CMP)拋光墊,其具有頂部表面、經(jīng)調(diào)適以接收端點檢測窗口的一個或多個孔口、具有凹陷部分且具有一個或多個凸緣端點檢測窗口(窗口)的下側(cè),每個窗口具有經(jīng)調(diào)適以緊密地裝配到所述拋光層的下側(cè)的凹陷部分中的凸緣,所述凸緣具有略微小于所述拋光層的凹陷部分的深度的厚度(以允許粘著劑),具有緊密地裝配到所述拋光層中的孔口中的檢測區(qū)域以使得其頂部表面大體上與所述拋光層的所述頂部表面齊平。
聲明:
“凸緣光學(xué)端點檢測窗口和含有其的CMP拋光墊” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)