一種研磨液、過拋和終點(diǎn)檢測方法及裝置、拋光設(shè)備,所述終點(diǎn)檢測方法,包括:利用包含顯色劑的研磨液對需要拋光的物質(zhì)進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光;收集從化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的拋光墊上流出的研磨液;利用比色法獲知從拋光墊上流出的研磨液中包含的需要拋光物質(zhì)的濃度,所述需要拋光物質(zhì)的濃度逐漸減小到預(yù)定范圍內(nèi),或者研磨液中需要拋光物質(zhì)的濃度在預(yù)定范圍內(nèi)且拋光的時間大于預(yù)定時間,或者研磨液中需要拋光物質(zhì)的濃度第二次在預(yù)定范圍內(nèi),輸出終點(diǎn)檢測信號。本技術(shù)方案可以有效防止晶圓的過拋問題。
聲明:
“研磨液、過拋和終點(diǎn)檢測方法及裝置、拋光設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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