本揭示提供一種化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)之板狀構(gòu)件的平坦度處理方法,其包含:(a)繪制對(duì)應(yīng)于一CVD板狀構(gòu)件的一座標(biāo)系,該座標(biāo)系上包含若干個(gè)座標(biāo)點(diǎn);(b)量測(cè)每個(gè)座標(biāo)點(diǎn)的平坦度;(c)判斷各個(gè)座標(biāo)點(diǎn)的平坦度是否符合一預(yù)定平坦度;以及(d)若該各個(gè)座標(biāo)點(diǎn)的平坦度不符合該預(yù)定平坦度,則在常溫下以一壓頭向需要進(jìn)行平坦度調(diào)整的座標(biāo)點(diǎn)施予壓力,并回到步驟(b)和(c)。本揭示能夠減少CVD板狀構(gòu)件的平坦度調(diào)整時(shí)間。
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