本實用新型公開一種便于調(diào)節(jié)化學機械拋光裝置,包括底盤,所述底盤底端的外側(cè)壁上開設有環(huán)型槽,所述環(huán)型槽的內(nèi)部滑動連接有固定環(huán),本實用新型所達到的有益效果是:本實用新型通過設置復位機構(gòu)、卡位機構(gòu)、防護結(jié)構(gòu)和增壓機構(gòu),針對不同晶圓表面進行拋光需要調(diào)節(jié)底盤與拋光頭之間的壓力時,能夠調(diào)節(jié)氣囊的膨脹程度,調(diào)節(jié)壓覆在底盤上的拋光頭與底盤之間的壓力,能夠調(diào)節(jié)底盤的上表面與晶圓之間的而壓力,避免在對不同晶圓進行拋光時影響對晶圓的表面的拋光效果,通過設置卡位機構(gòu)、復位機構(gòu)和防護機構(gòu),在需要對底盤進行檢修或者更換時,進行拆卸的操作簡單,更換結(jié)束后,進行安裝的操作簡單,便于對底盤進行檢修和更換,使用方便。
聲明:
“便于調(diào)節(jié)化學機械拋光裝置” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)