本發(fā)明公開了一種化學(xué)蝕刻工件的裝置,該裝置包括:接收處理氣體的腔室,該腔室具有用于抽取排出氣體的泵送口;和位于腔室內(nèi)泵送口的上游的工件支撐部。該腔室進(jìn)一步包括副腔,該副腔位于泵送口的上游和工件支撐部的下游,副腔包括窗口和臨近窗口的激發(fā)源,該激發(fā)源用于在排出氣體的樣品中產(chǎn)生等離子體,從而產(chǎn)生能夠通過窗口被監(jiān)測的光發(fā)射。
聲明:
“用于化學(xué)蝕刻工件的裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)