本發(fā)明公開了一種利用紫外臭氧修復(fù)微流控
芯片內(nèi)碳電極
電化學(xué)性能的方法,本發(fā)明通過將紫外臭氧清洗機(jī)產(chǎn)生的紫外臭氧氣流導(dǎo)入到微流控芯片內(nèi),利用紫外臭氧與集成在微流控芯片中碳電極表面的有機(jī)污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成揮發(fā)性氣體,實現(xiàn)微流控芯片中污染碳電極電化學(xué)性能的修復(fù),最終確保利用碳電極進(jìn)行重復(fù)性測試時實驗數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。該方法操作簡單方便、通用性強(qiáng)、經(jīng)濟(jì)性好。
聲明:
“利用紫外臭氧修復(fù)微流控芯片內(nèi)碳電極電化學(xué)性能的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)