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控制化學氣相沉積腔室內的基底加熱的裝置及方法

1042 編輯：管理員來源：中冶有色技術網

2023-03-19 07:01:14

一種控制化學氣相沉積腔室內的基底加熱的裝置及方法，尤其適用于MOCVD反應室。裝置包括：位于腔室內的加熱器；位于腔室內加熱器附近且與加熱器相間隔開的托盤，用于承載基底；第一溫度控制單元，與承載基底的托盤表面耦接，用于測量該托盤表面溫度，基于設定溫度和托盤表面溫度輸出第一控制信號；第二溫度控制單元，與第一溫度控制單元相連，用于測量托盤和加熱器之間區(qū)域的中間溫度，還用于根據第一控制信號和中間溫度輸出第二控制信號；加熱器，與第二溫度控制單元耦接，用于根據第二控制信號進行加熱。相應地，本發(fā)明還提供一種控制化學氣相沉積腔室內的基底加熱的方法。本發(fā)明可以獲得穩(wěn)定的基底溫度。

聲明：

“控制化學氣相沉積腔室內的基底加熱的裝置及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)