本發(fā)明提供一種鋁金屬柵化學(xué)機(jī)械研磨去除率的確定方法,提供鋁金屬柵化學(xué)機(jī)械研磨時(shí)的研磨參數(shù)、所需研磨液的成分及各成分的濃度,根據(jù)研磨時(shí)研磨液中各成分與鋁金屬柵表面發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)以及研磨粒子對(duì)鋁金屬柵表面機(jī)械去除反應(yīng),確定金屬粒子濃度隨時(shí)間變化率與金屬粒子濃度的關(guān)系,由此關(guān)系確定鋁金屬柵的研磨去除率。相應(yīng)地,本發(fā)明還提供一種鋁金屬柵化學(xué)機(jī)械研磨去除率的確定系統(tǒng)。本發(fā)明綜合考慮有效研磨粒子機(jī)械去除和研磨液化學(xué)反應(yīng)刻蝕間的協(xié)同作用,能實(shí)時(shí)確定鋁金屬柵的化學(xué)機(jī)械研磨去除速率,對(duì)CMP研磨的實(shí)時(shí)預(yù)測(cè)及
芯片生產(chǎn)線工藝配置具有積極指導(dǎo)作用。
聲明:
“鋁金屬柵化學(xué)機(jī)械研磨去除率的確定方法和系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)