本發(fā)明涉及一種汽相沉積系統(tǒng),具體地,涉及一種化學束薄膜沉積設備及薄膜沉積的方法。本發(fā)明提供了一種用于對多種種類進行真空沉積的噴嘴,所述噴嘴被分成多個四分部,每個四分部包含至少一個用于所述種類的出口,所述四分部中的每一個定義位于下方的隔間的壁,該隔間包含至少一個種類,其中兩個相鄰的隔間包含不同種類。
聲明:
“汽相沉積系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)