公開一種填料裝置、填料設備和
電化學沉積系統(tǒng),填料裝置包括:進料結構,所述進料結構包括第一進料口和第一出料口;容納倉,所述容納倉包括第二進料口和第二出料口,所述第二進料口與所述第一出料口連通,所述第二出料口用作所述填料裝置的出料口;設置在所述容納倉上的稱重器件,所述稱重器件配置為檢測所述容納倉中的物料的重量;傳輸結構,所述傳輸結構設置在所述第一出料口與所述第二進料口之間,并配置為將所述第一出料口輸出的物料向所述第二進料口傳輸;控制結構,所述控制結構連接所述稱重器件、所述傳輸結構,并配置為根據(jù)所述稱重器件所檢測到的重量控制所述傳輸結構的傳輸速度。
聲明:
“填料裝置、填料設備和電化學沉積系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)