本實(shí)用新型公開了一種晶圓緩存裝置和化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng),所述晶圓緩存裝置包括支撐架和檢測組件,所述支撐架用于水平支撐晶圓,所述檢測組件設(shè)置于所述支撐架的外周側(cè);所述檢測組件包括信號收發(fā)部、反射部和遮光板,所述遮光板罩設(shè)于所述反射部的側(cè)部,其上設(shè)置有透光孔,所述信號收發(fā)部輸出的光信號朝向所述反射部發(fā)射,光信號經(jīng)由所述透光孔入射至所述反射部,再自所述反射部經(jīng)由所述透光孔發(fā)射至所述信號收發(fā)部;所述檢測組件根據(jù)所述信號收發(fā)部的接收的光信號判定所述支撐架是否放置晶圓。
聲明:
“晶圓緩存裝置和化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)