本實用新型公開了一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備,包括爐管和放置于所述爐管內(nèi)的晶舟,所述晶舟包括第一端部和與所述第一端部相對的第二端部,在所述第一端部和第二端部之間具有多個相互平行的、用于放置晶片的晶片插槽,且每個所述晶片插槽具有至少兩個相互分離、用于支撐晶片的支撐架,其中,每一個所述支撐架所在的平面向所述第一端部所在的平面傾斜第一角度。本實用新型還公開了對應(yīng)的一種應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積設(shè)備的晶舟。采用本實用新型的化學(xué)氣相沉積設(shè)備及其晶舟,可以有效解決晶片在化學(xué)氣相沉積后水平檢測不過關(guān)的問題。
聲明:
“化學(xué)氣相沉積設(shè)備及其晶舟” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)