本實(shí)用新型的目的是提供一種半導(dǎo)體清洗化學(xué)液用冷卻裝置，以對(duì)液體進(jìn)行冷卻后排放的連續(xù)化處理；本裝置包括：冷卻槽，用于容納待冷卻液；進(jìn)液閥，設(shè)置在冷卻槽上部開(kāi)設(shè)的進(jìn)液口處；排液閥，設(shè)置在冷卻槽一側(cè)壁的下部開(kāi)設(shè)的排液口處；第一冷卻盤(pán)管，設(shè)置在冷卻槽的內(nèi)部，用于對(duì)冷卻槽內(nèi)待冷卻液降溫；溫度檢測(cè)模塊，用于檢測(cè)冷卻槽內(nèi)待冷卻液的溫度；液位檢測(cè)模塊，用于檢測(cè)冷卻槽內(nèi)待冷卻液的液位；控制模塊，其與溫度檢測(cè)模塊、液位檢測(cè)模塊、進(jìn)液閥和排液閥電性連接，本裝置通過(guò)控制模塊控制進(jìn)液閥、排液閥的開(kāi)關(guān)以使待冷卻液在冷卻槽內(nèi)降溫至預(yù)設(shè)溫度后排液、液位較低時(shí)進(jìn)液過(guò)程的連續(xù)進(jìn)行，有利于實(shí)現(xiàn)待冷卻液冷卻過(guò)程的連續(xù)性提高冷卻效率。