本發(fā)明提供了一種化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備，包括轉(zhuǎn)盤、鋪設(shè)于所述轉(zhuǎn)盤上的研磨墊、以及設(shè)置于所述研磨墊上方的研磨頭、研磨液供應(yīng)管以及調(diào)節(jié)器，還包括置于所述調(diào)節(jié)器中的電機(jī)以及分析電機(jī)信號(hào)的監(jiān)測(cè)分析單元，所述監(jiān)測(cè)分析單元根據(jù)所述電機(jī)的扭轉(zhuǎn)力矩信號(hào)判斷所述研磨墊的狀態(tài)。根據(jù)本進(jìn)行化學(xué)機(jī)械研磨，通過所述電機(jī)控制所述調(diào)節(jié)器的旋動(dòng)，以修整研磨墊；所述監(jiān)測(cè)分析單元根據(jù)電機(jī)的扭轉(zhuǎn)力矩信號(hào)實(shí)時(shí)判斷所述研磨墊的狀態(tài)。本發(fā)明提供的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備及其防止化學(xué)機(jī)械研磨殘留的方法，通過所述電機(jī)有效控制所述調(diào)節(jié)器懸臂的運(yùn)動(dòng)，同時(shí)通過所述監(jiān)測(cè)分析單元可間接分析待研磨表面是否有殘留，及時(shí)對(duì)化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備查缺補(bǔ)漏。