本發(fā)明屬于電催化和X射線光譜學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種
電化學(xué)原位X射線譜學(xué)電解池及其檢測方法和應(yīng)用。本發(fā)明電解池包括:頂蓋,用作工作電極集流體和通光孔;聚合物膜電極,用于承載待測樣品;池體,儲(chǔ)存電解質(zhì),為電解反應(yīng)的場所;底座,用于安置輔助電極,密封電解液,支撐所述池體并與各類X射線光譜儀連接;所述頂蓋、聚合物膜電極、池體和底座順序疊加密封。本發(fā)明解決了高真空條件下電化學(xué)原位軟X射線光譜測試的困難,能夠?qū)崿F(xiàn)高真空條件下電催化劑與電極材料的原位電化學(xué)X射線光電子能譜測量,軟X射線吸收譜測量。所述電解池可用于膜電極組件的原位電化學(xué)拉曼光譜和衰減全反射紅外光譜的測量。
聲明:
“電化學(xué)原位X射線譜學(xué)電解池及其測試方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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