本發(fā)明基于光刻掩膜與微液池的電化學(xué)高通量測試方法與裝置涉及金屬腐蝕、微區(qū)電化學(xué)及系統(tǒng)性數(shù)據(jù)積累應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域。構(gòu)成包括微液池測試系統(tǒng)、測試液更新系統(tǒng)、高精度XYZ三維移動(dòng)平臺、顯微監(jiān)控系統(tǒng)、電化學(xué)測試系統(tǒng)、存儲及控制系統(tǒng)及在各系統(tǒng)間控制指令與測試數(shù)據(jù)有效傳輸?shù)倪B接系統(tǒng)。本發(fā)明采用模塊化設(shè)計(jì)，可拓展性高，將光刻掩膜技術(shù)和微液池測試系統(tǒng)結(jié)合，并結(jié)合高通量思想，精準(zhǔn)控制工作電極反應(yīng)面積，具有高溶液量/工作電極反應(yīng)面積比，減小反應(yīng)產(chǎn)物的影響，消除縫隙腐蝕，降低漏液、堵塞、氧擴(kuò)散風(fēng)險(xiǎn)的發(fā)生，具有更低的溶液電阻，可根據(jù)需要選擇掩膜圖形和微細(xì)管尺寸，實(shí)現(xiàn)了微區(qū)電化學(xué)的高通量、自動(dòng)化測量，提高測量和分析效率。