本發(fā)明屬于
電化學測量技術領域,公開了一種降低電化學測試條中還原性干擾物影響的電化學測量方法。本發(fā)明所述電化學測量方法為分別測量目標分析物所產(chǎn)生的電流信號I1和還原性干擾物產(chǎn)生的干擾電流信號I2,由目標分析物所產(chǎn)生的電流信號I1和還原性干擾物產(chǎn)生的干擾電流信號I2計算出相應的校正系數(shù)k,用校正系數(shù)k校正目標分析物所產(chǎn)生的電流信號,得到與目標分析物真實濃度相對應的真實校正電流值Ic;其中Ic=I1/k。本發(fā)明所述測量方法可有效減小還原性干擾物對測量結果的影響,不僅適用于降低檢測氧化電流時的正干擾,而且可有效消除檢測還原電流時負干擾,測量準確度高,抗干擾能力強,適用范圍廣。
聲明:
“電化學測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)