本發(fā)明公開了一種CMP終點的確定方法、確定系統(tǒng)和CMP系統(tǒng),該確定方法包括:獲取驅(qū)動所述拋光盤的電機負載率隨時間變化的數(shù)據(jù)、所述擺臂的擺動角度隨時間變化的數(shù)據(jù)和所述拋光頭相對于所述拋光盤中心的擺動距離隨時間變化的數(shù)據(jù);進而根據(jù)以上數(shù)據(jù)得到歸一化摩擦力矩隨時間變化的數(shù)據(jù);根據(jù)歸一化摩擦力矩隨時間變化的數(shù)據(jù)得到所述歸一化摩擦力矩隨時間變化的曲線;根據(jù)曲線確定拋光終點。本發(fā)明具有如下優(yōu)點:不需要復(fù)雜的濾波計算,計算量小,能夠更加實時準確確定拋光終點,進而提升拋光后的成品質(zhì)量。
聲明:
“CMP設(shè)備的終點確定方法、終點確定系統(tǒng)和CMP系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)