本發(fā)明涉及一種用于成分檢測的光譜分析系統(tǒng)及光譜分析方法,其中光譜分析系統(tǒng)應用于金屬成分分析裝置中,光譜分析設備包括:降噪處理模塊,用于對校正金屬樣本的光譜數據進行降噪處理,以及對檢測金屬樣本的光譜數據進行降噪處理;校正建模模塊,用于基于校正金屬樣本的光譜數據用化學計量學軟件進行建模,得到金屬成分測定模型;檢測分析模塊,用于采用金屬成分測定模型和檢測金屬樣本的光譜數據進行分析;以及通信模塊。采用該種技術,結合化學計量學和建模建立金屬成分分析的校正模型,有選擇性地提取與分類目標有關的信息并抑制非相關特征和噪聲的影響,可以有效消除各種非目標因素對光譜造成的影響,實現光譜分析更好的技術效果。
聲明:
“用于成分檢測的光譜分析系統(tǒng)及光譜分析方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
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