本發(fā)明公開了一種鍍錫溶液凈化的工藝技術和裝備,其方法為:將含有固體和離子雜質的鍍錫溶液與除雜劑置于反應罐中反應一定時間后,反應液通過沉降罐進行固液分離,鍍錫溶液經(jīng)沉降罐沉降后,凈化后的鍍液回流到鍍錫溶液儲罐,而沉淀物經(jīng)壓濾機壓濾后作為固體廢棄物排放。該凈化裝置系統(tǒng)具有較強的除雜能力,可有效去除鍍液中的錫泥和離子雜質(特別是Pb離子),滿足高品質K板的生產(chǎn)需求。同時采用該裝置可降低鍍錫機組對錫原料的要求,采用常規(guī)99.9%純度的錫原料可生產(chǎn)出高品質的鍍錫板,具有顯著降本增效的作用。
聲明:
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