本發(fā)明公開了一種光學(xué)元件揮發(fā)溶劑循環(huán)回收利用的自動清洗方法,包括上料、超聲清洗、噴淋清洗、烘干出料和循環(huán)回收步驟。本發(fā)明能夠有效解決對無磨料水溶解超精密拋光后的諸如KDP類的光學(xué)晶體元件的清洗問題。由于本發(fā)明清洗過程中沒有固體顆粒物質(zhì),使用高頻超聲的沖刷作用和風(fēng)淋等非接觸式的清洗措施,防止了外力對軟脆光學(xué)元件造成損害,保證了清洗元件的表面質(zhì)量。本發(fā)明實現(xiàn)了對光學(xué)元件的多工位自動化清洗,并且將清洗過程中易揮發(fā)清洗液產(chǎn)生的揮發(fā)廢氣和清洗廢液引導(dǎo)入循環(huán)回收系統(tǒng),進(jìn)行冷凝液化后回收再利用,實現(xiàn)環(huán)保無排放清洗,減少了浪費,防止了環(huán)境污染,提高了經(jīng)濟性。本發(fā)明的清洗參數(shù)實時可調(diào),使清洗過程易于控制。
聲明:
“光學(xué)元件揮發(fā)溶劑循環(huán)回收利用的自動清洗方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)