本發(fā)明提供一種計算機磁頭清洗劑,按照重量百分比包括如下組份:增溶劑3~8;非離子型表面活性劑3~10;陰離子型表面活性劑3~10;消泡劑1~5;2,3-二氫十氟戊烷3~10;去離子水余量。本發(fā)明為一種水溶性清洗劑,對磁頭拋光后表面殘留的有機溶劑以及固體顆粒物的清洗效果理想,腐蝕性小,而且便于廢棄清洗劑的處理排放,符合環(huán)境保護的要求;配方設(shè)計合理,制備工藝簡單,不需要特殊生產(chǎn)設(shè)備,成本較低。
聲明:
“磁頭清洗劑” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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