本實(shí)用新型公開了一種紫外催化氧化設(shè)備,本實(shí)用新型涉及紫外催化氧化設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,包括凈化裝置,所述凈化裝置包括除濕粗濾區(qū)、臭氧凈化區(qū)、光氧催化區(qū)和異味吸附區(qū),且凈化裝置的一側(cè)設(shè)置有進(jìn)氣口,另一側(cè)設(shè)置有出氣口,所述凈化裝置位于進(jìn)氣口的一側(cè)位置處設(shè)置有降溫裝置,所述降溫裝置的一側(cè)設(shè)置有廢氣進(jìn)口,另一側(cè)設(shè)置有廢氣出口,所述廢氣出口與進(jìn)氣口固定連接,本實(shí)用新型通過設(shè)置降溫裝置,降溫裝置內(nèi)設(shè)置有水管和噴頭,水管連接外部水源,通過噴頭噴水,對廢氣進(jìn)行降溫,通過水對廢氣進(jìn)行降溫,也可將廢氣中含有的粉塵等固體物過濾出,避免廢氣剛排出時溫度較高,廢氣溫度過高,影響凈化效果的問題。
聲明:
“紫外催化氧化設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)