本發(fā)明公開(kāi)了一種超痕量Hg(Ⅱ)去除方法,其特征在于:將一種羥基修飾的MOF材料浸泡在含有超痕量Hg(Ⅱ)的廢水中。本發(fā)明中的羥基修飾的MOF材料對(duì)汞離子有較高的吸附容量和高選擇性,以快速、高效地去除水溶液中的痕量Hg(Ⅱ)離子,吸附效果遠(yuǎn)高于其他吸附材料,最大吸附容量為278mg/g,對(duì)初始濃度為100ppb的汞離子溶液一次處理后去除率高達(dá)87.5%,殘留汞離子濃度低于12.5μg/L,遠(yuǎn)低于國(guó)家廢水排放標(biāo)準(zhǔn)(50μg/L)。
聲明:
“超痕量Hg(Ⅱ)去除方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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