本發(fā)明公開了一種四氯化硅的低溫水解方法。將汽化的四氯化硅水解;水解后的混合物進行壓濾;將濾液輸送至水解塔中對四氯化硅進行水解,直到所得濾液中HCl的質(zhì)量濃度達到20-30%,得到鹽酸;研磨濾餅至無塊狀存在;將研磨后混合物進行水洗、打漿;然后進行二級壓濾,濾液一部分重新回到水解塔對四氯化硅進行水解,另一部分濾液中和后排至廢水池;將二次壓濾得到的濾餅干燥、閃蒸、旋風分離得到最終的二氧化硅產(chǎn)品。本發(fā)明對設備的要求低,能耗低,污染小;四氯化硅水解更充分;避免了硅膠積聚造成的管道堵塞和流量無法控制;延長了設備的使用壽命。
聲明:
“四氯化硅的低溫水解方法” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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