本發(fā)明公開了一種新型高級(jí)氧化深度處理裝置,包括并聯(lián)設(shè)置的微電解反應(yīng)池和臭氧反應(yīng)池,其中,微電解反應(yīng)池內(nèi)部設(shè)置有多個(gè)平行設(shè)置的固定裝置,用于固定并承載微電解材料;其中,固定裝置包括:承載槽,包括鏤空網(wǎng)狀主體和設(shè)置在承載槽頂部的固定部件,固定部件兩個(gè)相對(duì)的內(nèi)側(cè)面的頂部設(shè)置有凹槽;鏤空固定槽,頂部設(shè)置有倒“凹”形卡件,與所述凹槽滑動(dòng)連接。采用網(wǎng)兜式的填料固定裝置,將填料“放入”反應(yīng)池中,當(dāng)填料出現(xiàn)板結(jié)現(xiàn)象時(shí),更換方便,有效降低人力成本;鏤空式“網(wǎng)兜”可有效增加內(nèi)部填料與廢水的接觸面,承載槽底部的曝氣裝置的設(shè)置可進(jìn)一步增加反應(yīng)池內(nèi)廢水的流動(dòng),從而進(jìn)一步擴(kuò)大內(nèi)部填料與廢水的接觸,達(dá)到較優(yōu)的處理效果。
聲明:
“新型高級(jí)氧化深度處理裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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