本實(shí)用新型公開了一種電鍍
污水處理系統(tǒng),包括電解池、中和反應(yīng)池、沉淀池、絮凝池、活性炭吸附池、清水池,所述電解池上部設(shè)有支架,所述支架與絕緣層之間通過立柱固定連接,所述支架一側(cè)設(shè)有正電極,另一側(cè)設(shè)有負(fù)電極,所述電解池一側(cè)設(shè)有中和反應(yīng)池,所述中和反應(yīng)池一側(cè)設(shè)有沉淀池,所述斜管體下方設(shè)有污泥斗,所述污泥斗之間設(shè)有穿孔排泥管,所述沉淀池一側(cè)設(shè)有絮凝池,所述絮凝池一側(cè)設(shè)有活性炭吸附池,所述活性炭吸附池內(nèi)部設(shè)有活性炭吸附層,所述活性炭吸附層兩側(cè)設(shè)有過濾層,所述活性炭吸附池一側(cè)設(shè)有清水池,本實(shí)用新型適用范圍廣、處理效果好、成本低廉、處理時間短、操作維護(hù)方便、電力消耗低等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于工業(yè)廢水的預(yù)處理和深度處理。
聲明:
“電鍍污水處理系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)