本發(fā)明涉及一種制藥廢水深度處理系統(tǒng),包括廢水調(diào)節(jié)池、混凝沉淀池、臭氧氧化氣浮池、填料式缺氧厭氧反應(yīng)池、好氧接觸氧化池、二沉池、電解池、反流式曝氣生物濾池和清水池;混凝沉淀池包括攪拌混合區(qū)和沉淀區(qū),臭氧氧化氣浮池包括混合區(qū)和分離區(qū),填料式缺氧厭氧反應(yīng)池包括通過折流板分隔成的兼氧段、缺氧段和厭氧段,好氧接觸氧化池設(shè)置有進水管、布水三角錐,布水三角錐下部設(shè)有曝氣調(diào)控系統(tǒng),曝氣調(diào)控系統(tǒng)包括曝氣盤、
鼓風(fēng)機和溶解氧測量調(diào)控裝置,電解池為左右兩室結(jié)構(gòu),分別為正極室和負極室,正極室和負極室的底部連通,中上部由隔板隔開,正極室和負極室分別設(shè)有正負兩個電極板;反流式曝氣生物濾池包括下流區(qū)、上流區(qū)和污泥區(qū)。
聲明:
“制藥廢水深度處理系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)