本發(fā)明涉及一種印染廢水處理裝置及系統(tǒng),其中,一種印染廢水處理裝置,包括基座,設(shè)置在基座上部的封閉箱體,在封閉箱體的上部一側(cè)設(shè)置有進(jìn)水管,以及在封閉箱體的上部和下部分別設(shè)置有上封閉區(qū)和下封閉區(qū);吸附組件,設(shè)置在封閉箱體的內(nèi)部左側(cè),且位于上封閉區(qū)和下封閉區(qū)之間,MBR膜組件,設(shè)置在封閉箱體的內(nèi)部,位于吸附組件的右側(cè),且位于上封閉區(qū)和下封閉區(qū)之間;在所述下封閉區(qū)且位于吸附組件的下部設(shè)置有下曝氣裝置,與下曝氣裝置連接的氣流存儲(chǔ)區(qū),與氣流存儲(chǔ)區(qū)的氣流管連接的逆流閥,逆流閥與曝氣管連接,所述曝氣管設(shè)置在封閉箱體的下部,且位于下導(dǎo)軌的左側(cè)以及左封閉區(qū)的右側(cè),本發(fā)明還提供了一種系統(tǒng),配合上述的裝置。
聲明:
“印染廢水處理裝置及系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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