本發(fā)明的一種半導體行業(yè)硅片研磨廢水回用的處理方法屬于半導體制造和
工業(yè)廢水處理技術。該廢水回用的處理方法包括如下步驟:S1,通過廢水收集箱收集硅片研磨產生的廢水;S2,利用水泵將廢水泵入多介質過濾器進行第一次過濾;S3,將經過第一次過濾的水送入保安過濾器進行第二次過濾;S4,將經過第二次過濾的水送入超濾膜過濾裝置中進行第三次過濾;S5,通過SDI測定儀或者濁度儀測定并判斷經過第三次過濾的水是否符合欲先設定的標準要求,如符合標準要求,送入產水箱;如不符合標準的要求,送入廢水收集箱重復步驟S1至S4。該方法處理的水可直接利用,且無需添加藥劑,系統(tǒng)占地面積小,減輕膜堵塞,使用效果穩(wěn)定。
聲明:
“半導體行業(yè)硅片研磨廢水回用的處理方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)