本發(fā)明涉及一種表面具有均勻空穴分布的聚合物絕緣子及其制備方法,該方法主要包含以下步驟:在聚合物單體溶液中,以氣相二氧化硅作為觸變劑,數(shù)十納米至數(shù)微米的氧化物顆粒作為表面造孔劑,通過聚合反應(yīng)獲得氧化物顆粒均勻分布的
復(fù)合材料,在加工成聚合物絕緣子后,采用化學(xué)腐蝕的方法將表面氧化物顆粒腐蝕去除,獲得一種表面具有均勻空穴分布的聚合物絕緣子。本發(fā)明的特點是:通過調(diào)節(jié)氧化物顆粒的大小和質(zhì)量比,實現(xiàn)聚合物絕緣材料表面空穴尺寸和空穴密度分布的控制,從而改善了絕緣體的真空沿面閃絡(luò)特性,提高了絕緣體的表面擊穿電壓,具有特殊表面結(jié)構(gòu)絕緣子的真空沿面閃絡(luò)場強較純聚合物絕緣子提高了20%~50%。
聲明:
“表面具有均勻空穴分布的聚合物絕緣子及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)