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在銦錫氧化合物上生長電場調(diào)控透光率共軛環(huán)薄片方法

1018   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 17:27:35
在銦錫氧化合物上生長電場調(diào)控透光率共軛環(huán)薄片方法,涉及光電領(lǐng)域。步驟:1)將類芳香化合物單體、過硫酸系氧化劑、鈉鹽類表面活性劑、吸電子型摻雜劑混合,將反應(yīng)物溶于水中,攪拌后得混合溶液;2)將銦錫氧化合物基體底片清洗后將導(dǎo)電面朝上浸泡在步驟1)所得混合溶液中,取出后再清洗,令共軛活性鏈段在改性過后的銦錫氧化合物基體表面均勻生長,隨后進行熱處理,即完成在銦錫氧化合物上生長電場調(diào)控透光率共軛環(huán)薄片,得表面多孔類芳香性高分子微米級薄片。節(jié)約能源,增強微米級薄片制備的可重復(fù)性。避免原子對光的散射,降低微米級薄片的霧度。實現(xiàn)C、H、N缺電子化合物與銦錫氧化合物基體的化學(xué)鍵結(jié)合,延長復(fù)合材料使用壽命。
聲明:
“在銦錫氧化合物上生長電場調(diào)控透光率共軛環(huán)薄片方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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