本發(fā)明公開了一種高長徑比有機
硅烷嫁接水滑石的合成方法,即焙燒-復原法。該方法利用了水滑石的“結構記憶效應”,將共沉淀制備的水滑石前體進行焙燒和結構重建(在單一陰離子CO32-環(huán)境)。相當于將較粗糙的、形貌和顆粒不均一的、物相和層間陰離子不純的水滑石前體,進行了一次重結晶過程,保證了產物的純粹性和形貌粒徑等的統(tǒng)一,所得到的有機硅烷嫁接水滑石尺寸為納米級,可望提高其在高分子基體材料中的分散性,用于制備高性能的納米
復合材料。本合成工藝中采用的金屬鹽為NO3-,合成過程中空氣和溶液中的CO2將進入反應體系,最終層間陰離子為CO32-,杜絕了潛在的二次污染。
聲明:
“高長徑比有機硅烷嫁接水滑石的合成方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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