本發(fā)明提供了聚合物基的選擇性輻射冷卻結(jié)構(gòu),該輻射冷卻結(jié)構(gòu)包括聚合物或聚合物基
復(fù)合材料的選擇性發(fā)射層。典型選擇性輻射冷卻結(jié)構(gòu)采取薄片、膜或涂層的形式。本發(fā)明還提供了使用聚合物基的選擇性輻射冷卻結(jié)構(gòu)通過選擇性熱輻射從主體去除熱量的方法。
聲明:
“輻射冷卻結(jié)構(gòu)和系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)