本發(fā)明公開一種
復(fù)合材料及其制備方法,包括:CdS納米片,所述CdS納米片表面結(jié)合有WS
2量子點和L?半胱氨酸。本發(fā)明的采用1?10nm厚度的CdS納米片可以縮短載流子傳輸路徑,從而降低了光生電子空穴對的內(nèi)部復(fù)合幾率,且1?10nm厚度的CdS納米片具有大的比表面積,增加了活性位點,有利于增強(qiáng)光催化活性;L?半胱氨酸結(jié)合在CdS納米片表面,在光照過程中會緩慢釋放出S
2?離子,可以減輕CdS納米片的光腐蝕現(xiàn)象,提高光催化穩(wěn)定性;量子點作為催化劑的材料,具有量子限制、邊緣效應(yīng),并且量子點大的比表面積的可以提供更多的產(chǎn)氫活性位點,加速還原反應(yīng)的進(jìn)行,催化產(chǎn)氫性能會明顯提高。
聲明:
“復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)