聚酰胺/石墨納米導電
復合材料及其制備方法,涉及一種聚酰胺/石墨納米導電復合材料的工藝,由主基體聚酰胺、輔基體和石墨組成,各組分的質量份為:主基體聚酰胺100份、輔基體5~60份、石墨2~40份。本發(fā)明具有較低的滲濾閾值(3-4%)和較高的電導率。由于導電填料填充量較低,本發(fā)明基本保持了尼龍的優(yōu)異的力學性能和加工性能,同時,又具有較好的抗靜電性,因此具有廣闊的工業(yè)化前景,有望在防靜電材料、電磁屏蔽材料、微波吸收等領域獲得廣泛的應用。
聲明:
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