1200℃三溫區(qū)可傾斜旋轉(zhuǎn)爐OTF-1200X-5L-R-III主要針對(duì)于粉料的混燒,爐管可360°轉(zhuǎn)動(dòng),且內(nèi)部設(shè)有4片揚(yáng)料板,可增加粉料燒結(jié)的均勻性,因而適合于實(shí)驗(yàn)室中較多粉料的燒結(jié),特別是鋰電材料的燒結(jié),如LiFePO3、LiMnNiO3等。
1200℃立式真空小管式爐OTF-1200X-S-VT是一款小型開啟式立式管式爐,適合于對(duì)樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下吊燒和淬火。采用PID控制器進(jìn)行溫度調(diào)節(jié),可設(shè)置30段升降溫程序,控溫精度為± 1℃。
混氣系統(tǒng)4路質(zhì)子GSL-4Z是用于控制一種到四種的氣體流經(jīng)真空密封的管式爐,這種氣體控制系統(tǒng)安裝在移動(dòng)架內(nèi),管式爐可以放在移動(dòng)架上面,氣體控制系統(tǒng)的前面板上有控制并顯示氣體流量的調(diào)節(jié)閥,可以用于CVD系統(tǒng)及退火爐,用來研究氣體環(huán)境對(duì)材料的影響,在半導(dǎo)體和集成電路工業(yè)、特種材料學(xué)科、化學(xué)工業(yè)、石油工業(yè)、醫(yī)藥、環(huán)保和真空等多種領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中有著重要的作用,廣泛應(yīng)用于電子工藝設(shè)備,如擴(kuò)散、氧化、外延、CVD、等離子濺射以及鍍膜設(shè)備、光纖熔煉、混氣配氣系統(tǒng)及其它分析儀器。
高真空鉭加熱爐是高溫電阻加熱爐。以鉭為加熱元件,適用于高真空狀態(tài)下對(duì)金屬、非金屬及其化合物進(jìn)行燒結(jié)、熔化,也可以對(duì)小型樣品進(jìn)行真空釬焊的操作,如硬質(zhì)合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。高真空鉭加熱爐極限工作溫度為2000℃,工作最高溫度1800℃,工作過程中的加熱速度可以通過溫控表進(jìn)行設(shè)置,但升溫速度過快會(huì)使鉭爐膽的壽命會(huì)有所降低,為了延長爐子的使用壽命,推薦每分鐘的升溫速度為20℃,在500℃以下可以適當(dāng)加快升溫速度。
1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐OTF-1200X-II最高溫度可達(dá)到1200℃,并可通過調(diào)節(jié)兩個(gè)獨(dú)立的控溫程序,使?fàn)t管內(nèi)溫度場(chǎng)形成一梯度。本機(jī)可用CVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。
1200℃單管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL底部安裝一對(duì)滑軌,可手動(dòng)進(jìn)行爐體移動(dòng),最高工作溫度達(dá)1200℃,加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到10℃/s。為獲得最快加熱,可預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度,然后移動(dòng)爐子到樣品位置;為獲得最快冷卻,可在樣品加熱后移動(dòng)爐子至另一端,本機(jī)是低成本進(jìn)行快速熱處理的理想設(shè)備。
1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X-III是高溫管式爐,最高溫度可達(dá)1500℃,三個(gè)溫區(qū)分別用三個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制,每個(gè)溫區(qū)都可以設(shè)置30段升降溫程序,并設(shè)有過熱和斷偶保護(hù)功能,控溫精度高達(dá)±1℃。本機(jī)特別適合于在氣氛保護(hù)或真空環(huán)境下對(duì)樣品進(jìn)行退火和燒結(jié)。
QS型微波氣氛燒結(jié)爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波高溫實(shí)驗(yàn)工作站,適用于各種氣氛、真空條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結(jié)等工藝研究。
RC-Ti-100小型鈦金屬反應(yīng)釜是由純鈦金屬制作而成,最大可耐4Mpa的壓力,是制備先進(jìn)材料,尤其是水熱法合成生物材料的理想工具。
1200℃開啟式立式爐OTF-1200X-80-VT是可垂直開啟式管式氣氛爐,能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護(hù)條件下對(duì)樣品快速升降溫。本機(jī)可垂直安裝在可移動(dòng)的支架上,方便爐管的取放。
KSL-1700X-H2 是一款通過 CE 認(rèn)證的高溫箱式爐,此款儀器專門針對(duì)于材 料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進(jìn)行燒結(jié)或是退火,其最高溫度可高達(dá) 1700℃。 KSL-1700X-H2采用氧化鋁纖維作為爐膛材料(爐膛尺寸為200 x 200 x 200 mm), 以鉬絲作為加熱元件,爐體頂部密封板中嵌有冷卻水管,以保證儀器工作時(shí)的密 封性能。對(duì)需在惰性氣體或還原性氣體環(huán)境下燒結(jié)的材料(如熒光材料,鈦合金 等),KSL-1700X-H2 是一個(gè)非常好的選擇。
雙管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計(jì)的,特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。本機(jī)可通過滑動(dòng)爐體,實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。
1800℃小型箱式爐(1.7L)KSL-1800X-S是一款微型箱式爐,采用Kanthal Super-1900型硅鉬棒和氧化鋯內(nèi)襯爐膛,可在1750℃下連續(xù)使用,最高溫度可達(dá)1800℃。本機(jī)具有體積小巧、節(jié)約能源的優(yōu)點(diǎn),下開式爐門更易于樣品裝載,并加裝通氣口,可在氧氣或惰性氣氛下操作使用。
QS型微波氣氛實(shí)驗(yàn)爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波高溫實(shí)驗(yàn)工作站,具有快速抽真空、可控多氣氛及高溫的實(shí)驗(yàn)條件,適用于各類材料的煅燒、焙燒、燒結(jié)、灰化、焚化、熔融及熱處理等。
IMCS-1500RC-1500℃氣氛保護(hù)連續(xù)鑄造爐是一款感應(yīng)加熱的連續(xù)鑄造爐,可在氣氛保護(hù)環(huán)境下各種合金進(jìn)行熔煉和連續(xù)鑄造,可鑄造出棒材,管材和金屬板材,最高熔煉溫度可達(dá)1500℃。
1700℃箱式爐(3.4L)KSL-1700X-A1采用側(cè)開式爐門,以硅鉬棒為加熱元件,智能溫度調(diào)節(jié)儀和B型雙鉑銠熱電偶配套使用,對(duì)爐內(nèi)溫度進(jìn)行測(cè)溫調(diào)節(jié)和自動(dòng)控制,最高工作溫度可達(dá)1700℃。
1200℃雙溫立式爐OTF-1200X-4-VT-II是雙溫區(qū)可垂直開啟式立式管式爐,其爐管直徑可制作為100mm,適合于在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下對(duì)樣品進(jìn)行吊燒和淬火。爐體下端裝有一移動(dòng)架,以便移動(dòng)。
2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-60適用于高真空狀態(tài)下對(duì)金屬、非金屬及其化合物進(jìn)行燒結(jié)、熔化,也可以對(duì)小型樣品進(jìn)行真空釬焊的操作,如硬質(zhì)合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-60工作過程中的加熱速度可以通過溫控表進(jìn)行設(shè)置,但升溫速度過快對(duì)鎢爐膽的壽命會(huì)有所降低,為了延長爐子的使用壽命,每分鐘的升溫速度不宜超過40℃。
1700℃箱式爐(36L)KSL-1700X-A4采用側(cè)開式爐門,以硅鉬棒為加熱元件,智能溫度調(diào)節(jié)儀和B型雙鉑銠熱電偶配套使用,對(duì)爐內(nèi)溫度進(jìn)行測(cè)溫調(diào)節(jié)和自動(dòng)控制,最高工作溫度可達(dá)1700℃,與同系列其他型號(hào)相比,具有更大的有效爐膛。
可滑動(dòng)RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL是一種快速熱處理爐,采用紅外燈加熱和移動(dòng)爐體快速冷卻,可獲得最高升溫速率為100℃/s 、降溫速率為5℃/s。
CIP-50MAF(分體式)電動(dòng)等靜壓機(jī)是把制品放置于盛滿液體的密閉容器中,通過對(duì)其各個(gè)表面施加相等的壓力,在高壓的環(huán)境下,使得制品的密度變大,并得到所需的形狀。隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步,等靜壓機(jī)越來越廣泛應(yīng)用于粉末冶金、復(fù)合材料、耐火材料、陶瓷、硬質(zhì)合金等的成型。本機(jī)的設(shè)計(jì)是針對(duì)于大專院校、科研院所的材料研究部門,具有體積小、運(yùn)行可靠、操作容易的特點(diǎn)。
1100℃豎式馬弗爐GSL-1100D11是大型的豎式馬弗爐,其最高溫度為1100℃,精確的溫控系統(tǒng)包含了30段升溫和降溫曲線設(shè)置,其控溫精度達(dá)到± 1℃,爐體垂直安裝在可移動(dòng)的支架上方便爐管的取放,是金屬退火和高溫?zé)Y(jié)的**理想設(shè)備。
三靶高真空磁控鍍膜濺射系統(tǒng)是一款國產(chǎn)小型科研與教學(xué)用鍍膜設(shè)備,采用模塊化設(shè)計(jì),安裝靈活、易于維護(hù)。該設(shè)備由超高真空雙靶磁控濺射室、旋轉(zhuǎn)樣品架、磁控濺射靶、抽氣系統(tǒng)等組成,極限真空優(yōu)于5.0×10??Pa,可實(shí)現(xiàn)單靶、雙靶輪流或共濺射,支持反應(yīng)磁控濺射制備多種膜系,具備快速抽氣、不停機(jī)更換樣品、加熱與旋轉(zhuǎn)樣品等功能,性價(jià)比高,適用于單層膜、多層膜系的鍍制及各類材料的薄膜制備實(shí)驗(yàn)。
上海鉅晶生產(chǎn)的1200℃加長溫區(qū)氫氣管式爐(型號(hào):SKGL-1200LФ120*1300mm)是一款高性能的氫氣爐,適用于高校、科研院所和工礦企業(yè)進(jìn)行高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)和真空退火等。該爐具有700加熱溫區(qū)和400恒溫區(qū),可進(jìn)行2點(diǎn)控溫,并設(shè)有30段升降溫程序。設(shè)備采用KF快速法蘭密封,便于物料的快速放置和取出,同時(shí)爐蓋可打開以實(shí)時(shí)觀察加熱物料。爐膛由進(jìn)口氧化鋁多晶纖維材料制成,保溫性能優(yōu)越,加熱元件為耐用的高電阻優(yōu)質(zhì)合金絲。
上海鉅晶推出的1000℃金屬管氫氣還原爐是一款先進(jìn)的真空爐設(shè)備,適用于氫氣爐、氣氛還原爐以及高溫電爐等多種工藝需求。這款爐子能夠在1000℃的高溫下運(yùn)行,為金屬管等材料提供氫氣還原處理。該設(shè)備具備靈活的定制選項(xiàng),以滿足不同客戶的特定工藝要求,確保了廣泛的適用性和高效的生產(chǎn)能力。上海鉅晶承諾1-5個(gè)工作日的快速發(fā)貨周期,為客戶提供了便捷的服務(wù)體驗(yàn)。
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