本發(fā)明涉及一種量測圖形化襯底圖形的方法,主要用于測試在平滑襯底上進行規(guī)則圖形化后圖形尺寸的量測;方法中利用掃描電子顯微鏡(SEM)作為測試工具,但測試過程沒有按照普通裂片的制樣方式進行,而是將整片無損傷地進行測試;測試中將樣品進行一定角度傾斜,量測傾斜后的成像尺寸,經(jīng)過一定運算可以得到所測樣品實際圖形尺寸。本發(fā)明介紹的方法給出了SEM在高度測試中新的形式,開啟了圖形化襯底圖形尺寸的無損傷測試模式,既節(jié)約了成本又簡化了測試中制樣的流程。
聲明:
“量測圖案化襯底的量測方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)